ASML 技术高级副总裁：已携手蔡司启动 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻机开发
6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。
目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA（0.55NA）光学系统，分辨率为 8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤，并提升光刻图案的精度。
Jos Benschop 表示，ASML 尚未为 Hyper NA 光刻设备...