9月8日消息，euv光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有euv光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握euv光刻胶核心技术的平台启动了。
来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路（无锡）创新发展大会开幕。
本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。
另一个则是江苏（集萃）光刻胶树脂合成...
在半导体制造领域，工艺节点越先进，对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产，几乎完全依赖EUV（极紫外）光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备，因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。
那么，在这些行业巨头中，谁掌握的EUV光刻机数量最多？调研机构BOFA发布的数据显示了从2021年至2025年的EUV光刻机分布情况：
作为全球最大的晶圆代工企业，并且长期领跑先进制程的量产进度，台积电近年来一直是EUV设备的最大买家。除20...
12月2日最新消息，euv光刻技术已成为5纳米及更先进制程不可或缺的核心环节。目前全球范围内，仅有荷兰asml公司具备量产euv光刻机的能力。而美国正加速布局该领域，不仅加大政策扶持力度，更由官方直接出资支持一家新兴科技企业。
这家名为xLight的初创公司，致力于研发基于自由电子激光器（FEL）的新一代EUV光源系统。与ASML当前采用的高功率等离子体（LPP）技术路径不同，xLight选择了一条更具颠覆性的技术路线——以FEL作为EUV光刻的核心光源，其首台原型设备...
12月25日，国产光刻机领域再传新动态，引发广泛关注。在中国政府采购网发布的编号为zycgr22011903的采购公告中显示，科学技术部采用单一来源方式，采购一台步进扫描式光刻机，中标金额达1.099亿元，中标单位为上海微电子装备（集团）股份有限公司，设备型号为ssc800/10。
截至发稿前，该公告仍可查，但其详细页面已无法正常访问。
值得注意的是，“SSC800”这一型号此前从未在公开渠道披露。有业内人士联想到此前网络流传的SSA800型号——曾被提及为面向2...
1月1日消息，在高科技领域，当前普遍认为美国和中国是引领全球的两大主力，而欧盟则被认为已处于相对落后的位置。然而，一份最新曝光的欧盟内部报告却提出了截然不同的观点——该报告指出，中国与美国对欧盟关键技术的依赖程度，远比外界想象中更为深刻。
据德国《商务日报》（Handelsblatt）近日披露，这份由欧盟内部专家完成的机密调研报告，核心目标是评估欧盟在哪些出口产品与核心技术上具备不可替代性。
报告得出了颠覆传统认知的结论：过去人们普遍认为欧盟在高端科技方面严重依赖中美...