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10月26日，我国在光刻胶研究领域迎来重要进展！ 据《科技日报》报道，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者，创新性地采用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析，并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已发表于国际权威期刊《自然·通讯》。 作为集成电路制造中的核心技术之一，光刻工艺推动着芯片制程不断向更小尺寸演进。 通俗地说，光刻胶就像是芯片制造过程中的“雕刻颜料”，其关...

12月7日最新消息显示，此前关于日本断供光刻胶的传闻虽遭日方否认，但业内普遍认为其在光刻胶领域的主导地位已构成实质性技术制约——尤其在尖端euv光刻胶环节，jsr、信越化学、东京应化（tok）等日企仍牢牢掌控全球供应链命脉。 回溯2019年日韩贸易争端，日本曾对韩限制出口光刻胶等三大半导体关键材料，彼时即暴露其“材料武器化”的能力。此后韩国虽加速国产替代进程，但所谓“已攻克EUV光刻胶”实为误读：当前三星与SK海力士所用EUV光刻胶，多数系通过日本企业在海外设立的子公司...